第三百一十三章 光刻技术

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打算一两年后放开授权，允许英特尔、德州仪器、三星电子等公司下边的工厂生产销售优盘，安美森收收专利费也不错。

    感觉最不顺的，是关于陈立东的委托。

    其一是帮助丽丝购买超算，安德烈陪着丽丝拜访了几个具备制造超算能力的公司，最后铩羽而归，人家没空。

    其二是收拢懂芯片技术的华裔，同样收获不大。

    半年多了，倒是搜罗了十几个硕士以上学历的年轻人，有几位具备在芯片厂工作的经历，其他十几人都是初出茅庐，还局限在书本上的那些理论知识。

    安德烈安排这些人开展芯片加工制造和集成电路的设计等方面的研究，然后就放羊了。

    前些日子，陈立东再次委托他寻找制作「易优威」光刻机的公司或者科研机构，后来又告诉他：「‘易优威"是大写的‘EUV"」，之后再次来电叮嘱他关注一个叫做「阿斯麦」的公司。

    三道金牌，让安德烈不得不上心。

    「阿斯麦」三个字到底是什么含义，陈立东说不清楚，不过做光刻机的圈子本就不大，他很快找到了对应的这家公司。

    这家公司的名字是AdvaorMaterialsIional，简称ASM，用汉语拟音的话应该是「阿斯麦」。

    这家公司在艾斯巴国，它原本是一家芯片制作商，十几年前电子巨头菲利普与之合作，成立了新的部门，开发光刻系统和机器。

    光刻技术出现在上世纪50年代，山姆国贝尔实验室的两位工程师尝试把线路图「打印」到硅晶片上，使之产生更精细、更复杂的设计。

    大致方法是先制版，通常采用石英玻璃板和铬板的复合材料制作底板，用电子束或镭束在上面刻画集成线路，做成光掩模。

    然后，硅片上涂上光敏涂层，将光掩模上的图案曝光在硅片涂层上，接着通过化学蚀刻的办法，完成集成线路的「打印」。

    光掩模相当于底板，这么反复操作就能够大量制作印刷上集成线路的硅片。

    1961年，山姆国GCA公司的David.Mann部门，制造出第一台步进式光刻机，售价30000刀，精度1微米。

    1984年，阿斯麦成立，当时蓝星大概有10家光刻机制造商，那时这个行业的老大是GCA，阿斯麦倒数第一。

    到80年代末，蓝星活着的光刻机企业只剩下5家，包括太阳国的尼康、佳能，山姆国的GCA、SVG。

    阿斯麦排第四位。

    1995年，阿斯麦经历沟沟坎坎后，获得了三星电子的超大订单，并在哥谭证券交易所上市，而曾经的老大GCA在被收购一次后，已经被关闭。

    随着对阿斯麦的深挖，安德烈又了解到了EUV的消息。

    这个「EUV」是ExtreUltra-violet的简写，这三个单词直译是「极度紫色」，用在半导体领域，代表的是「极紫外光刻」的意思。

    紫外光在电磁波谱中，范围波长为400到10纳米。

    极紫外光刻，是以波长10到14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

    1997年山姆国成立了EUVLLC联盟，ASM在做出多项让步后成功入局。

    EUVLLC联盟汇聚了山姆顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、Motoro等巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV技术。

    安德烈将有关情况发聩给陈立东后，陈立东下达指令：靠近阿斯麦，与之发生业务关(本章未完，请点击下一页继续阅读)
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