第655章 光刻机

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，转向EUV光源技术。

    所以，中国不但缺少研发光刻机的制造公司，还缺少研发光刻机光源的高科技企业。

    在光刻机镜头方面，中国光学科研单位研发的速度十分缓慢，一直到2020年，都没有研制出什么实物。

    就连DUV光刻机使用的透镜和核心的光学镜片、目前和光刻机光源一样，都不掌握在国内厂商的手中，要实现这两方面的突破，绝非一日之功，但是这一步是必须要走，而且是刻不容缓。

    至于光刻机生产需要的工件台，虽然国内有企业已经开始研发双工件台，但双工作台的技术还很落后，估计目前刚摸索到一点光刻机双工件台的门槛。

    除了这三大部件外，剩下的控制台，掩膜台等还至关重要，需要众多国内芯片制造企业继续摸索前进。

    但是，中国芯片制造产业的发展，不仅仅是简单的芯片制造技术，还要在国内形成一条完整的国产化芯片产业链，而这个芯片产业链，既需要众多中国半导体企业通力合作，还需要中国政府和科研单位在芯片研发方面进行大力支持。

    在开始时，只有少数的几家半导体企业加盟，但李向阳相信这支队伍以后会逐渐扩大，在所有半导体企业的共同努力下，一定生产出中国先进的光刻机。
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