第172章 全新歼-20首次模拟战斗！以一敌十！忍无可忍的鹰酱！（6K）

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    寂静的气氛持续了有几十秒，似乎连喘气声都清晰可见。

    赵思远看着手中这一沓文件，一脸懵逼道：「张院长你没在开玩笑吧？」

    「光刻机？DuV技术光刻机？我们几时有这一种技术了？」

    别说浸润式DuV光刻机，更别说什么32nm的制程，目前他们夏微电子也只能做到90nm制程的投影式光刻机罢了。

    结果你告诉他，现在夏科院拥有32nm的DuV光刻机技术？这是在开哪门子的玩笑？

    都不能算是跨越式发展了，而是直接一飞冲天到了外太空。

    「你先看看就知道了。」张予理颔首笑道。

    「那我先看看吧.」

    赵思远拧巴着眉头，带着疑惑打开了这一份文件。

    看面倒是没有介绍什么研制方式，毕竟那实在是太过于繁琐了，而是一些十分简单的综述。

    然而，既然如此他只是瞥了一眼上面写的描述，立刻脸上呆滞住了。

    利用26mm*8mm狭缝扫描，令晶圆片与掩膜版同步动态扫描.使其达成26mm*33mm曝光场.技术实施路线为：.

    利用多重曝光技术.三重曝光（@精华书阁Le）使其拆分为多个掩膜版上，使其图像雕刻密度迭加，工艺制程成倍提升，实施手段为：

    .

    尽管只是粗略的看了几眼，但是从这些综述上而言他并没有发现太大问题。

    赵思远迅速翻阅了下面几十页的草稿纸，整个人瞬间沉浸于这茫茫多的公式与介绍当中。

    时间一分一秒的过去，他每翻阅下一页的速度就会更加的缓慢，甚至有时候还会盯着几个公式琢磨大半天。

    旁边的张予理和郑立行两人倒是没有着急，倒上两杯茶水慢慢自酌自饮起来。

    直到时间过去了近乎两个小时，赵思远才粗略的看完了大致内容。

    脸上带着浓郁的震撼与震惊：「这这是真的？」

    这Tm竟然是真的32nm工艺光刻机？

    夏科院哪里来的技术？你们是把amsL公司的人绑架了吗？难道我们大夏也效仿鹰酱了？

    「小赵，这份技术怎么样？」郑立行挑了挑眉。

    这可是"长城守望"组织发送过来的技术，那还能有假的不成？

    别说什么DuV光刻机技术了，他们现在就算是发送"火星载人飞船"技术给他们，大夏都会选择先"相信"再"质疑"！

    「实现的可能性相当大」赵思远眉头紧皱，思索许久后紧接着说道：「哪怕32nm制程实现不了，但是65nm甚至45nm完全国产化应该没有问题。」

    尽管这仅仅只是"光刻机"技术的目录而已，但是以他的眼界看来，上面所阐述的内容应该大致属实。

    甚至哪怕它无法真的造出一台"32nmDuV光刻机"，也能给夏微电子提供许多宝贵的经验，突破45nm制程的时间将会大大提前。

    闻言。

    瞬间，张予理的脸庞上大喜过望：「我马上把这一份技术的全套技术图逐步发送过去，你们夏微电子务必抓紧进行研发。」

    「有任何的需求随时禀告我们，争取在最快时间把工艺制程突破到32nm！」

    高端芯片对于大夏而言实在太过于重要，只要涉及任何尖端产业就不可能离得开这个，高端产业链更不可能脱离半导体的影响。

    毕竟现代社会，是建立在高度信息化的框架之下，(本章未完，请点击下一页继续阅读)
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