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第340章 美滋滋的配套单位

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    东北光学所,接到了一个光路系统的研制要求,要求的发起方,来自十二机部,至于是做什么用的,并没有说明。

    要求非常贴心的分为了两级,实现过程也就分成了两步。

    第一步,是将波长355nm的激光束扩散为直径160mm的平行光束。

    第二步,是将这束扩散后的平行光束,将光路中的玻璃板上图像重新缩微投影为一个20mm的光斑。要求缩微投影后,图形变形不超过5微米,越小越好。

    这个要求说简单那不简单,说麻烦嘛,好像也不是非常麻烦,正好卡在好像努力一下就能够的着的程度。

    对于搞技术的人来说,这种要求是最舒服的,既不会没有挑战性和成就感,又不会要求太高难以实现。

    而且对方明确说了,分两步实施,第一步做出来就先提交第一步,第一步尽量快,第二步可以慢慢做,但是质量一定要稳。

    还能分步提交成果,这就更舒服了。

    甚至对方还非常贴心的,送了一台激光器过来,正是355nm激光光源。

    这个不是红宝石激光器,本来是高振东为激光测距准备的YAG(钇铝石榴石)激光器,这东西功率比较容易做大,而且波长根据掺杂可调。

    这正是高振东和1274厂集成电路工艺研究中的一部分,这个东西一看就知道,用于光刻机的光路系统。

    把整个光路系统分成两步,正是高振东的主意。

    第一步,相对简单一些,可以用于接触式或者接近式光刻机,这两个都是直接投影的,模版的分辨率多少,实际分辨率大约就是多少。

    而第二步困难一些,等东北光学所慢慢搞就行,这是预想用于投影式光刻机的,搞个一年两年三年的都不是什么问题,搞不出来,接近式光刻机也够用了,搞出来了,那就纯赚了。

    与此同时,某化学研究所,搞有机材料的同志也接到了十二机部关于光敏材料的研究要求,研究要求明确指明了,光敏材料可以是光聚合型、光分解型、光交联型中的一种,用于激光感光成像,工作光波长355nm。

    十二机部还送来了一台激光器,以及简单的激光扩散配件,用作试验过程中的光源。

    说实话,研究所的同志,还是第一次看到要求这么明确,连技术路线都给说得明明白白的要求文件。

    甚至光交联型这种,他们也是看了要求文件里面的解释才搞清楚是个怎么回事儿。

    要是所有的需求方都像这一家这样就好了,化学研究所的同志美滋滋的想,还能学东西!

    其实这是高振东没办法,他不知道现在到底哪一种能搞成,总之65年这东西是有的,干脆把几种常见的光刻胶的路线都给写了上去,你做出来哪种算哪种,无非就是正胶负胶的区别,都能用。

    一个技术刚兴起的时候,自由度是最大的,不用考虑太细节的东西,而且配套技术不用考虑技术路线的差别带来的性能差异,因为要求还没高到那份上,大概就是能用就行,整出来就算本事。

    像日后光刻技术那一大堆高级技术在这个年代都不用考虑,根本用不上,也没条件用上。

    搞个10微米~100微米的光刻,就想着把浸润光刻、多重曝光、EUV光源这些弄上来无疑是吃饱了撑着了。

    且不说这些美滋滋的配套厂所,高振东自己,正在和厂里的一堆八级工研究工件台的事情,虽然不搞多重曝光,但是套刻还是需要的,工件台的定位精度还是要考虑。

    套刻,就是把多个图形分多次刻到同一工件上,形成一个完整的图形。

    如果只是刻一次,那倒不需要管套刻精度(本章未完,请点击下一页继续阅读)
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